EUV 极紫外光刻机
13.5nm 波长光源，面向 7nm 及以下先进逻辑与存储制程，多层膜光学与高真空曝光平台。
先进制程LITHOGRAPHY SERIES
全系列光刻机，覆盖研发到量产
从 13.5nm EUV 到 i-line/g-line，从激光直写到纳米压印与先进封装光刻，EUVTEK 提供面向不同制程节点的全谱系光刻装备。
DUV 浸没式光刻机
ArF 193nm 浸没式曝光，高数值孔径与双工件台，支撑先进逻辑与存储的量产主力节点。
量产主力DUV 干式光刻机
ArF / KrF 248nm 干式曝光，成熟逻辑、存储与特种工艺的高性价比主力机型。
成熟制程i-line / g-line 光刻机
365nm / 436nm 紫外曝光，面向功率器件、模拟芯片、MEMS 与化合物半导体的成熟量产。
成熟量产激光直写光刻机
无掩模直写曝光，快速原型、小批量流片与掩模制造，缩短研发周期、降低试错成本。
快速原型纳米压印光刻机
面向微纳结构、光学器件与生物芯片的压印曝光方案，高分辨、低成本、可量产。
微纳结构先进封装光刻机
面向晶圆级封装、2.5D/3D 与面板级封装的厚胶高深宽比曝光，助力先进封装产线。
先进封装FULL TAPE-OUT EQUIPMENT
芯片流片全套设备，一站式整线交付
围绕光刻核心工艺，EUVTEK 提供从晶圆前处理到量测检测的全流程流片装备，以整线集成交付降低客户建线与扩产复杂度。
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涂胶显影设备
Track 系列：光刻胶涂覆、烘烤与显影，工艺均匀性与颗粒控制满足量产要求。
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光刻曝光设备
EUV/DUV/i-line 全系列光刻机，配合对准与套刻测量实现关键层图形转移。
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干法刻蚀设备
ICP / RIE / 介质刻蚀：逻辑、存储与功率器件的精细图形刻蚀。
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薄膜沉积设备
PVD / CVD / ALD / 外延：金属、介质与半导体薄膜的均匀沉积。
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离子注入设备
高精度掺杂注入，能量与剂量控制满足器件阈值与结深要求。
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湿法清洗设备
单片/槽式清洗：颗粒、金属离子与有机残留去除，洁净度达 ppb 级。
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热处理与退火设备
炉管与快速热退火（RTP）：氧化、扩散、退火工艺温度均匀控制。
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量测与检测设备
CD-SEM / 套刻量测 / 缺陷检测 / OCD：关键尺寸与缺陷在线监控。
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搬送与自动化设备
EFEM / SMIF / 晶圆机器人：全自动搬送与产线互联，提升设备稼动率。
01
涂胶显影
光刻胶涂覆、预烘与冷却，为曝光建立均匀稳定的工艺基准。
02
光刻曝光
全系列光刻机完成图形转移，套刻精度与分辨率双达标。
03
刻蚀 · 沉积
干法刻蚀与薄膜沉积交替执行，构建器件三维结构。
04
注入 · 清洗
离子注入实现掺杂，湿法清洗保障各环节界面洁净。
05
量测检测
关键尺寸、套刻与缺陷在线闭环，确保流片良率可控。
WHY EUVTEK
从单机到整线，交付的不只是设备
EUVTEK 以整线集成与工艺服务为核心，让每一台设备都服务于客户真实的量产目标。
◉
整线集成能力
光刻机与前后道设备统一规划、接口标准化，从单机销售到整线交钥匙一站式完成。
◎
工艺验证平台
配套工艺调试与 Recipe 开发服务，在交付前完成关键工艺窗口验证。
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纳米级精度控制
气浮/磁浮运动台与亚纳米级位置反馈，运动与套刻精度达到 nm 级。
▦
模块化快速交付
平台化模块设计，按工艺需求灵活配置，缩短交付与扩产周期。
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本地化服务网络
常备件仓库与就近服务团队，7×24 响应，降低客户停机风险。
⌖
标准与安全合规
设备按 ISO 洁净室与 SEMI S2/S8 等标准设计制造，安全与可维护性并重。
SERVICE & SUPPORT
全生命周期服务保障
从装机到量产，EUVTEK 提供覆盖设备全生命周期的专业服务，让产线稳定运行。
01
安装与调试
专业团队完成装机、校准、工艺验收，交付即具备量产条件。
02
工艺培训
操作、维护与工艺开发三级培训体系，帮助客户团队快速上手。
03
备件与耗材
关键备件常备库存与供应保障，缩短维修与更换周期。
04
远程运维
7×24 远程诊断、软件升级与预防性维护，防患于未然。
APPLICATIONS
覆盖主流芯片制造领域
EUVTEK 全系列光刻机与流片设备，服务于从先进节点到特色工艺的多元应用场景。
先进逻辑芯片
EUV / 浸没式 DUV 组合曝光，支撑 7nm 及以下先进逻辑制程。
逻辑制程存储芯片
高密度存储阵列光刻与刻蚀方案，兼顾良率与产能。
DRAM / 3D NAND功率半导体
i-line / KrF 光刻与深沟槽工艺，服务 IGBT、MOSFET 等功率器件。
功率器件化合物半导体
SiC / GaN 特色工艺流片装备，覆盖衬底到器件制造。
SiC / GaNMEMS 与传感器
高深宽比刻蚀与键合工艺设备，支撑 MEMS 器件规模化量产。
MEMS先进封装
晶圆级与面板级封装光刻设备，赋能 2.5D/3D 集成封装。
先进封装ABOUT EUVTEK
让每一颗芯片，都能自主制造
EUVTEK 聚焦全系列光刻机与芯片流片全套设备，致力于为半导体制造企业提供 自主可控、稳定可靠的核心装备与整线解决方案。我们相信，装备自主是产业自主的基石。
01
自主可控
核心装备自主化，让产业链的每一步都握在自己手里。
02
极致精度
以纳米级标准打磨每一个运动与控制环节。
03
客户成功
整线交付与工艺陪伴，与客户共担量产目标。
04
长期主义
十年磨一剑，做时间的朋友，做产业的基石。
CONTACT
开启自主流片产线建设
欢迎晶圆厂、封装厂、科研院所与产业伙伴联系我们，共同推进全系列光刻机与流片全套设备的落地应用。